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計測範囲：1mTorr
〜1500Torr （0.1
Pa〜200kPa）
＊ディスプレイユニットとトランスデューサーは別売りとなります
＊ご紹介製品のご使用には、トランスデューサーと、ディスプレイユニットの両方が必要となります |
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| [製品特徴] |
・測定範囲は1mTorr〜1500Torrの広範囲をカバー（ダイアフラムとピラニーの併用）
・測定ガス種に関わらず、2〜1500Torrの範囲でリニア計測が可能
・測定単位は、0.001〜2000
mbarと0.1
Pa〜200kPaにも変換可能（無償対応）
・最大4つのセットポイントを設定可能
・0〜2
VDCと0〜1.5
VDC出力（標準）に加え、0〜10
VDC、4-20
mAアナログ出力も追加可能（オプション仕様モデル）。
・コンピューターインターフェイスに対応可能な、リニアアナログ出力
・表示は見やすい大型緑色LEDディスプレイ
・ダイアフラムはシリコン製、ステンレス製から選択可能
・製品取付けは、パネルマウント、ベンチの両方式から選択可能
・2〜1500Torr計測時の反応速度は400msec以下
・1〜2000mTorr計測時の反応速度は1.25秒以下
・製品使用に必要なケーブル類、マウント類は全て同梱
・最大250 Feetまでケーブルの延長が可能 |
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| [製品紹介] |
| ◆素早い反応速度 |
| VRC社製ワイドレンジ測定型ダイアフラムマノメーターは、2〜1500Torrの計測範囲に、高精度でありながら、ガス構成の影響を受けない計測を可能とする、高速反応ダイアフラムセンサーを使用し、1mTorr〜2000mTorr（2Torr）の計測範囲ではダイアフラムセンサーと隣り合わせに配置された、高耐久性ピラニセンサーによる計測に切り替わります。ピラニセンサーとダイアフラムセンサーは同じトランスデューサー筐体内に配置され、ダイアフラムセンサーにおいては、フィールドでの交換が容易な仕様となっております。 |
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| ◆取付け向きの影響を受けないセンサー精度 |
| トランスデューサー外装は、ステンレス製ブロックからの削り出しとなり、高い耐久性を誇ります。また、コンベクションゲージの様に取付け向きによるセンサー精度への影響や、ガス構成からの精度影響は受けません。 |
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| ◆プロセス制御に適した、最大4つのセットポイント設定 |
| 本製品標準での、プロセス制御用セットポイント設定可能数は2つまでとなりますが、オプション仕様とすることにより、4つまでのセットポイント設定が可能となります。各セットポイントは、製品フロントパネル上からの設定が可能。また、各セットポイント用のLEDインジケーターを装備し、確認が容易です。セットポイント設定は製品計測範囲内であれば、どのポイントでも設定が可能です。リレーは各セットポイントが持ち、接点仕様は3
amps @ 220V, non-inductiveとなります（スペック表参照）。 |
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| ◆バラエティに富んだ出力仕様 |
| 本製品標準仕様では、0 to 2VDCと0
to 1.5VDC出力を装備。オプション仕様では、プログラム可能な0
to 10VDCと4-20mAのアナログ出力が標準仕様に追加されます。 |
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| ◆Torr、millibar、Pascalの各種計測単位に対応 |
| VRC社製ワイドレンジ測定型ダイアフラムマノメーターでは、TorrとmTorr計測単位直読を標準としていますが、
.001 to 2000millibarと0.100Pa
to 200kPaまでの計測範囲・単位にも、無償にて変換対応を致します。 |
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| [製品使用例] |
| 1：結晶育成 |
| 大多数の真空プロセスがそうであるように、結晶育成では、従来1つ以上の圧力計測器が必要となる、2段式の圧力制御を行います。まず、10から15mTorr（1から2Pascal）までの残留酸素や水分の排気を、ロータリー真空ポンプを使用して行います。その後、プロセス容器中に約200Torr（2500Pa）圧力のアルゴンガスを導入します。VRC社製ワイドレンジ測定型ダイアフラムマノメーターは結晶育成の様に、測定精度を必要とする繰り返し計測を、広い圧力範囲で実施するプロセスに対し、1つの計測器でカバーできる製品となります。 |
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| 2：照明製品の製作工程 |
| 照明製品（ランプ等）の製作工程への使用にも、本製品は適用致します。照明製品等の製作工程では、メカニカルブースターポンプ等を使用し、大気圧から5mTorr（1Pa）以下まで減圧を行い、その後、アルゴンやネオン、またはクリプトン等のガス導入時圧力を、600Torr（80,000Pa）まで測定する必要があります。広い範囲でありながら、精度の高い圧力計測を要求される本工程において、本製品は最適な能力を有しております。 |
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| 3：L.P.C.V.D |
| L.P.C.V.Dは低真空減圧ラインによる、プロセス容器内の減圧を20mTorr（2Pa）以下まで行い、その後、プロセス内のリークを確認した後に、混合ガス導入を2〜10Torr（200〜1200Pa）の間で実施します。上記の様なL.P.C.V.Dの減圧プロセスにも、本製品は1台で十分に対応が可能です。 |
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